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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述常壓?jiǎn)尉庋雍投嗑П∧こ练e裝置。
答案：
三種裝置不僅可以用于硅外延生長(zhǎng)，也較廣泛的用于GaAs，AsPAs，GeSi合金和SiC等其它外延層生長(zhǎng)；還可用于氧化硅...
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答案：
（1）氣相反應(yīng)室；
（2）加熱系統(tǒng)；
（3）氣體控制系統(tǒng)；
（4）排氣系統(tǒng)
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述動(dòng)量的傳遞方式
答案：
兩種常見(jiàn)的流體流動(dòng)方式：流速與流向均平順者稱為“層流”；流動(dòng)過(guò)程中產(chǎn)生擾動(dòng)等不均勻現(xiàn)象的流動(dòng)形式，則稱為“湍流”。
