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單項(xiàng)選擇題

異構(gòu)脫蠟催化劑還原時(shí)，系統(tǒng)壓力控制在（）Mpa。

A.10.0
B.12.0
C.14.4
D.14.6

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單項(xiàng)選擇題

異構(gòu)脫蠟催化劑還原時(shí)，循環(huán)氫純度控制（）

A.≮99.9%
B.≮99.0%
C.≮99.99%
D.≮98.0%

單項(xiàng)選擇題

不是加氫裂化催化劑硫化結(jié)束標(biāo)志項(xiàng)是（）

A.所有急冷氫閥門均關(guān)閉、催化劑床無(wú)溫差ΔT
B.冷高分切不出水
C.反應(yīng)器進(jìn)出口H₂S濃度相同
D.循環(huán)氣中的H₂S濃度從開始一直維持在1~2vol％

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