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單項選擇題

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產生二氧化硅層，厚度約為（）。

A.30nm
B.10nm
C.20nm
D.25nm

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單項選擇題

下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標？（）

A.金屬離
B.微粒
C.純度
D.濃度

單項選擇題

如下哪個選項不是半導體器件制備過程中的主要污染物？（）

A.化學物質
B.金屬離子
C.融解的氧氣
D.細菌