A.由細(xì)到粗、先平后光 B.由粗到細(xì)、先平后光 C.由粗到細(xì)、先光后平 D.由細(xì)到粗、先光后平 E.以上都錯(cuò)誤
A.后堤區(qū)位于軟硬腭的前后顫動(dòng)線之間 B.上頜全口義齒組織面在后堤區(qū)形成后堤，有邊緣封閉作用 C.后堤區(qū)通常呈弓形，其后界中部約位于腭小凹后2mm處 D.后堤區(qū)外端為覆蓋翼上頜切跡的粘膜凹陷 E.在模型顫動(dòng)線處切3mm的切跡，將模型前份5mm內(nèi)刮去一層，愈向前刮除愈多
A.0.5mm B.1mm C.2mm D.3mm E.5mm
A.上he架前要檢查he架的各個(gè)組成部分是否完整，各固定螺絲能否完全擰緊 B.在用石膏將下頜模型固定在he架上時(shí)，在石膏初凝前，應(yīng)當(dāng)將he架正置 C.下頜模型因石膏太軟而下沉，與基托組織面失去接觸，會(huì)導(dǎo)致上、下頜頜位關(guān)系的改變 D.石膏初凝后，最好能用繩將he架上、下頜體的前端捆扎固定 E.在確定髁導(dǎo)斜度和切導(dǎo)斜度之前，要洗凈he架上多余的石膏
A.利用可使用的天然間隙，盡量少磨除牙體組織 B.盡量少暴露基牙的牙面 C.孤立牙和錯(cuò)位牙一般情況下不選作基牙 D.在游離缺失患者的缺失側(cè)選擇1個(gè)健康牙為基牙 E.對(duì)于大支架，采用5個(gè)卡環(huán)保證固位、穩(wěn)定
A.支托應(yīng)緊貼于支托窩內(nèi)，呈匙狀 B.支托不宜過長(zhǎng)、過寬、過厚，以免影響咬合 C.下頜金屬基托的上端要止于余留牙導(dǎo)線以上，前牙在舌隆突以上 D.支架蠟型的各部分與模型表面緊密貼合，否則會(huì)導(dǎo)致支架適合性不良 E.蠟型最好使用酒精吹燈吹光
A.75℃ B.85℃ C.90℃ D.95℃ E.100℃
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