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各向異性的刻蝕剖面是在所有方向上(橫向和垂直方向)以相同的刻蝕速率進行刻蝕。
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光刻是集成電路制造工藝發(fā)展的驅動力。
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投影掩膜版上的圖形是由金屬鉭所形成的。
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