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在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，為了測(cè)定硅片上的二氧化硅薄膜的厚度，將薄膜一端做成劈尖狀，如圖所示，用波長(zhǎng)λ=546.1nm的綠光從空氣中垂直照射硅片，在垂直方向觀(guān)測(cè)到二氧化硅劈尖上出現(xiàn)八條暗紋，第八條是劈尖與平行平面膜的交線(xiàn)M，若取二氧化硅的折射率n₂=1.5，硅的折射率n₃=3.4，
（1）二氧化硅薄膜的厚度是多少？
（2）劈尖的棱邊N是明紋還是暗紋？為什么？

折射率分別為1.45和1.60的兩玻璃板，使其沿一邊相接觸，形成一個(gè)頂角為為0.1°的尖劈，使波長(zhǎng)為500nm的光垂直入射于劈，并在上方觀(guān)察尖劈的干涉條紋，試求：
（1）條紋間距；
（2）若將整個(gè)尖劈浸在折射率為1.5的油中，則條紋間距又為多少？
（3）定性說(shuō)明浸入油中后，干涉條紋將怎樣變化？